真空鍍膜機

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。真空鍍膜機鍍制薄膜不均勻的解決方法制的薄膜的均勻性都會受到某種因素影響。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。

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真空抽不上去的原因

1、漏率偏高就是我們通常所說的漏氣;.

2、真空機組的抽氣能力不夠了，油被污染或氧化了:

3、真空室內(nèi)太臟放氣;

4、真空室內(nèi)有漏水;

5、真空管道有漏氣;.

6、或者是以上幾種可能都有。

出現(xiàn)問題首先是要判斷，是不是拆卸過東西，是不是漏水?閥門打開了嗎?根據(jù)現(xiàn)象判斷原因，然后再去根據(jù)判斷找問題，可能會收到事半功倍的效果。

養(yǎng)成良好的衛(wèi)生習(xí)慣

相比以前我們廠的設(shè)備是灰塵滿面、油漬不堪。也許很多人都認為，設(shè)備只要正常運轉(zhuǎn)就可以了，搞得再干凈也是做表面工作。我可是這樣認為的，一個人連表面工作都作不來，那真的還有內(nèi)在、實在的工作嗎?當然設(shè)備和設(shè)備周圍的灰塵、油污對設(shè)備的本身的影響也是相當之大的。本公司專業(yè)從事真空鍍膜設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)擁有經(jīng)驗豐富的技術(shù)團隊及優(yōu)質(zhì)的售后服務(wù)隊伍為您解決設(shè)備在使用過程中遇到的任何問題?；覊m能產(chǎn)生靜電，損壞電子元件;油污能使電線、水管硬化開裂，造成一些意想不到的問題出現(xiàn)。特別我們使

用的真空設(shè)備，還有它本身的特殊性。真空設(shè)備講究的是-一個真空清潔度，真空清潔度越差，放氣性就越大。這樣使設(shè)備抽到較高的真空度所需的時間就越長。

或者根本就無法抽到。這樣一來就減少我們的產(chǎn)量，二來影響到了我們的產(chǎn)品的質(zhì)量。

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常見的真空鍍膜材料

氧化物一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5，五氧化二鈮Nb2O5，五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3，氧化鋅ZnO等高純氧化物鍍膜材料。

其它化合物硫化鋅ZnS，硒化鋅ZnSe，氮化鈦TiN，碳化硅SiC，鈦酸鑭LaTiO3，鈦酸鋇BaTiO3，鈦酸鍶SrTiO3，鈦酸鐠PrTiO3，硫1化鎘CdS等真空鍍膜材料。

金屬鍍膜材料高純鋁Al，高純銅Cu，高純鈦Ti，高純硅Si，高純金Au，高純銀Ag，高純銦In，高純鎂Mg，高純鋅Zn，高純鉑Pt，高純鍺Ge，高純鎳Ni,高純金Au，金鍺合金AuGe，金鎳合金AuNi，鎳鉻合金NiCr，鈦鋁合金TiAl，鋅鋁合金ZnAl，鋁硅合金AlSi等金屬鍍膜材料。真空計：真空計是真空鍍膜機器上的重要組成部分，它是檢測鍍膜機真空度的重要手段?！?